2017年 特許ランキング
- 2024年9月20日 更新 -
2017年に発行された公報（公開特許公報，特許公報）に基づくランキングです。
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特許出願件数ランキング
特許取得件数ランキング
2017年 出願公開分 - データ更新日：2024年9月20日 -
| 順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2017年 特許取得件数 |
|---|---|---|---|---|---|
| 2921位 | コンティネンタル・ライフェン・ドイチュラント・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 7 |  1586位
|
15 | 10（1777位） |
| 2921位 | マークテック株式会社 | 7 |  5242位
|
3 | 0（24017位） |
| 2921位 | 山口精研工業株式会社 | 7 | 12189位
|
1 | 2（5450位） |
| 2921位 | カール・ツアイス・メディテック・アーゲー | 7 | 4224位
|
4 | 2（5450位） |
| 2921位 | 国立大学法人旭川医科大学 | 7 | 3099位
|
6 | 1（8798位） |
| 2921位 | ホガナス アクチボラグ （パブル） | 7 | 2477位
|
8 | 4（3281位） |
| 2921位 | 白川 利久 | 7 | 2281位
|
9 | 2（5450位） |
| 2921位 | 株式会社小島製作所 | 7 | 12189位
|
1 | 4（3281位） |
| 2921位 | ＴＯＡ株式会社 | 7 | 12189位
|
1 | 7（2245位） |
| 2921位 | 株式会社岡崎製作所 | 7 | 3542位
|
5 | 4（3281位） |
| 2921位 | ニューコムテクノ株式会社 | 7 | 12189位
|
1 | 1（8798位） |
| 2921位 | ユーロケラ ソシエテ オン ノーム コレクティフ | 7 | 2110位
|
10 | 6（2490位） |
| 2921位 | ニューフレイ リミテッド ライアビリティ カンパニー | 7 | 1771位
|
13 | 9（1911位） |
| 2921位 | レ ラボラトワール セルヴィエ | 7 | 2281位
|
9 | 2（5450位） |
| 2921位 | 株式会社住田光学ガラス | 7 | 4224位
|
4 | 2（5450位） |
| 2921位 | 株式会社ＪＳＯＬ | 7 | 2110位
|
10 | 8（2056位） |
| 2921位 | ＪＦＥミネラル株式会社 | 7 | 5242位
|
3 | 3（4057位） |
| 2921位 | イナート・ファルマ・ソシエテ・アノニム | 7 | 7297位
|
2 | 0（24017位） |
| 2921位 | ライトラボ・イメージング・インコーポレーテッド | 7 | 2477位
|
8 | 4（3281位） |
| 2921位 | 上銀科技股▲分▼有限公司 | 7 | 2756位
|
7 | 5（2791位） |
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特許出願件数ランキング
特許取得件数ランキング
2017年 特許登録分 - データ更新日：2024年9月20日 -
| 順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2017年 出願公開件数 |
|---|---|---|---|---|---|
| 3281位 | クレンボン カンパニー リミテッド | 4 | - | 0 | 0（34787位） |
| 3281位 | エムエイチアイ ヴェスタス オフショア ウィンド エー／エス | 4 | 4304位
|
3 | 6（3286位） |
| 3281位 | ロフィン−ジナール テクノロジーズ インコーポレイテッド | 4 | 9250位
|
1 | 2（7815位） |
| 3281位 | 三菱スペース・ソフトウエア株式会社 | 4 | 1289位
|
16 | 2（7815位） |
| 3281位 | 学校法人順天堂 | 4 | 2385位
|
7 | 20（1396位） |
| 3281位 | アグロカネショウ株式会社 | 4 | - | 0 | 10（2283位） |
| 3281位 | 三井農林株式会社 | 4 | 2983位
|
5 | 2（7815位） |
| 3281位 | 株式会社国元商会 | 4 | 1440位
|
14 | 9（2477位） |
| 3281位 | クリオン株式会社 | 4 | 4304位
|
3 | 2（7815位） |
| 3281位 | 太田 良三 | 4 | 4304位
|
3 | 8（2676位） |
| 3281位 | 株式会社トランストロン | 4 | - | 0 | 4（4465位） |
| 3281位 | 株式会社ＴＡＮＡーＸ | 4 | 3496位
|
4 | 5（3759位） |
| 3281位 | 公益財団法人電磁材料研究所 | 4 | 9250位
|
1 | 4（4465位） |
| 3281位 | ロッキード・マーチン・コーポレーション | 4 | 5777位
|
2 | 9（2477位） |
| 3281位 | 株式会社五藤光学研究所 | 4 | 5777位
|
2 | 1（12799位） |
| 3281位 | エスアーペー エスエー | 4 | 1645位
|
12 | 0（34787位） |
| 3281位 | スキーデータ・アクチエンゲゼルシャフト | 4 | - | 0 | 0（34787位） |
| 3281位 | ベンテラー・アウトモビールテヒニク・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 4 | 2177位
|
8 | 3（5643位） |
| 3281位 | パスロジ株式会社 | 4 | 9250位
|
1 | 9（2477位） |
| 3281位 | ジェンテックス コーポレイション | 4 | 5777位
|
2 | 6（3286位） |
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各年の特許ランキング
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国）～米国ならびに EPC （欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
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