- 2024年9月20日 更新 -
2017年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2017年 出願公開分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2017年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12799位 | 日本分光株式会社 | 1 | 3542位 | 5 | 10(1777位) |
12799位 | ニッコーシ株式会社 | 1 | - | 0 | 0(24017位) |
12799位 | 日本電気計器検定所 | 1 | 12189位 | 1 | 3(4057位) |
12799位 | フロンティア・ラボ株式会社 | 1 | 12189位 | 1 | 1(8798位) |
12799位 | 大陽ステンレススプリング株式会社 | 1 | 12189位 | 1 | 0(24017位) |
12799位 | エージェンシー フォー ディフェンス ディベロップメント | 1 | - | 0 | 0(24017位) |
12799位 | 株式会社三工光学 | 1 | 7297位 | 2 | 0(24017位) |
12799位 | 寿精版印刷株式会社 | 1 | 12189位 | 1 | 1(8798位) |
12799位 | 日本通信電材株式会社 | 1 | 4224位 | 4 | 1(8798位) |
12799位 | 大友 藍花 | 1 | - | 0 | 0(24017位) |
12799位 | 株式会社エスキュービズム・ホールディングス | 1 | - | 0 | 0(24017位) |
12799位 | 株式会社プラットフィールド | 1 | - | 0 | 2(5450位) |
12799位 | 株式会社ティーエヌケー | 1 | 3542位 | 5 | 1(8798位) |
12799位 | 株式会社ライトボーイ | 1 | 7297位 | 2 | 1(8798位) |
12799位 | 山六産業株式会社 | 1 | - | 0 | 0(24017位) |
12799位 | 直江津電子工業株式会社 | 1 | - | 0 | 3(4057位) |
12799位 | KYBエンジニアリングアンドサービス株式会社 | 1 | - | 0 | 2(5450位) |
12799位 | テクダイヤ株式会社 | 1 | 4224位 | 4 | 0(24017位) |
12799位 | 松井 弘明 | 1 | - | 0 | 0(24017位) |
12799位 | アイエムエス ナノファブリケーション アーゲー | 1 | 3542位 | 5 | 0(24017位) |
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2017年 特許登録分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2017年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
8798位 | ツェチャン・サンファ・オートモーティヴ・コンポーネンツ・カンパニー,リミテッド | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | 東西工業株式会社 | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | FDCグローバル株式会社 | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | オオノ開發株式会社 | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | 株式会社ワイズネット | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | 東京プロト株式会社 | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | soil株式会社 | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | マナテク・インコーポレーテツド | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | 富田 純平 | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | 株式会社河村農園 | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | 株式会社ホスピタルイン企画開発 | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | 株式会社三栄精機製作所 | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | ヘンネッケ ゲー エム ベー ハー | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | インドゥストゥリアル アガラリア ラ パルマ リミタダ、インドゥパルマ リミタダ. | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | ネリウム バイオテクノロジー,インコーポレーテッド | 1 | - | 0(34787位) | |
8798位 | 株式会社AquaFusion | 1 | - | 0(34787位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
9月25日(水) - 東京 港
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