- 2025年8月8日 更新 -
2018年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2018年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2018年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
3520位 | 日本プラパレット株式会社 | 5 | ![]() |
1 | 4(3222位) |
3520位 | ボブスト メックス ソシエテ アノニム | 5 | ![]() |
12 | 12(1497位) |
3520位 | 株式会社NSP KS | 5 | ![]() |
3 | 1(8638位) |
3520位 | コーンプロダクツ ディベロップメント インコーポレーテッド | 5 | ![]() |
1 | 3(3972位) |
3520位 | イミュノライト・エルエルシー | 5 | ![]() |
2 | 4(3222位) |
3520位 | キッセイ薬品工業株式会社 | 5 | ![]() |
12 | 3(3972位) |
3520位 | オンコセラピー・サイエンス株式会社 | 5 | ![]() |
6 | 6(2454位) |
3520位 | 株式会社チノー | 5 | ![]() |
9 | 3(3972位) |
3520位 | 株式会社東京自働機械製作所 | 5 | ![]() |
8 | 2(5366位) |
3520位 | イナート・ファルマ・ソシエテ・アノニム | 5 | ![]() |
7 | 5(2781位) |
3520位 | セファロン、インク. | 5 | ![]() |
3 | 1(8638位) |
3520位 | 株式会社ウッドワン | 5 | ![]() |
4 | 3(3972位) |
3520位 | 佐竹化学機械工業株式会社 | 5 | ![]() |
4 | 6(2454位) |
3520位 | 株式会社ディーアンドエムホールディングス | 5 | ![]() |
6 | 2(5366位) |
3520位 | エフアールエックス ポリマーズ、インク. | 5 | ![]() |
3 | 2(5366位) |
3520位 | 成都光明光▲電▼股▲分▼有限公司 | 5 | ![]() |
5 | 6(2454位) |
3520位 | 株式会社サウンドファン | 5 | - | 0 | 5(2781位) |
3520位 | 精電舎電子工業株式会社 | 5 | ![]() |
5 | 6(2454位) |
3520位 | 住友電工ウインテック株式会社 | 5 | ![]() |
3 | 4(3222位) |
3520位 | 伊藤光学工業株式会社 | 5 | ![]() |
7 | 5(2781位) |
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2018年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2018年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
8638位 | バイオカイン・セラピューティクス・リミテッド | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | ザ・パーブライト・インステイテユート | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | リピッド・テラピューティクス・ゲー・エム・ベー・ハー | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | ポリメム | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | ベーイプシロンカー−シェミー ゲーエムベーハー | 1 | ![]() |
3 | 0(33468位) |
8638位 | セラメックス エルティーディー | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | デレガレラ ホールディングス リミテッド | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | マルク ハイドラウリク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | フェデラル−モーグル・フリートベルク・ゲーエムベーハー | 1 | ![]() |
1 | 0(33468位) |
8638位 | トライコーン テック タイワン | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | セラダイン,インコーポレイティド | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | ノヴィコフ,アナトリー アナトーリエヴィチ | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | ヴィート エンフェー | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | ナノ ワン マテリアルズ コーポレーション | 1 | - | 0 | 1(12401位) |
8638位 | シースター ケミカルズ インク. | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | フランクリン コントロール システムズ,インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | 山佐産業株式会社 | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | オリエンタル工業株式会社 | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | 株式会社アキュセラ | 1 | - | 0 | 0(33468位) |
8638位 | 株式会社REVO | 1 | ![]() |
1 | 2(7458位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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【大阪会場】 設計図面に隠れている発明を見出す発明発掘(図面発掘)~「知財ポートフォリオ・マネジメント」を高めるために必須のテクニックを ケーススタディを通じて解説 ~
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