- 2025年8月22日 更新 -
2019年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2019年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2019年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12951位 | 佳銘精密工業有限公司 | 1 | - | 1(8774位) | |
12951位 | 株式会社エヌテックス | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 米谷多媒體有限公司 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | ゾディアック エアロ エレクトリック | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 佐藤 武 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 中右 昌宏 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 中村 省三 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 厦門正新▲椽▼▲膠▼工業有限公司 | 1 | - | 1(8774位) | |
12951位 | 呉國城 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 株式会社三葵コーポレーション | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 鈴木 正 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | ロエスレル イーぺー ゲーエムベーハー | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 株式会社トノハタ | 1 | - | 1(8774位) | |
12951位 | ドンド株式会社 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 株式会社 金冠堂 | 1 | - | 1(8774位) | |
12951位 | 株式会社ニッカファインテクノ | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 齋藤 貴義 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 藤岡 宏造 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 池田 仁志 | 1 | - | 0(23568位) | |
12951位 | 株式会社拓恵 | 1 | - | 0(23568位) |
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2019年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2019年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
8774位 | ダイアトップ株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 1(12951位) |
8774位 | 中日本ハイウェイ・メンテナンス東名株式会社 | 1 | - | 0 | 1(12951位) |
8774位 | ラボテック株式会社 | 1 | - | 0 | 0(34904位) |
8774位 | 妹尾 淑子 | 1 | - | 0 | 1(12951位) |
8774位 | 株式会社ムーンスター | 1 | ![]() |
1 | 1(12951位) |
8774位 | 株式会社大林製作所 | 1 | ![]() |
2 | 1(12951位) |
8774位 | 倉井 豊之 | 1 | - | 0 | 0(34904位) |
8774位 | 日進医療器株式会社 | 1 | ![]() |
2 | 1(12951位) |
8774位 | 無臭元工業株式会社 | 1 | - | 0 | 1(12951位) |
8774位 | マッツァ イノヴェイション リミテッド | 1 | - | 0 | 0(34904位) |
8774位 | 自動車部品工業株式会社 | 1 | - | 0 | 7(2815位) |
8774位 | 森 昭平 | 1 | - | 0 | 1(12951位) |
8774位 | 有限会社静和マテリアル | 1 | - | 0 | 1(12951位) |
8774位 | 株式会社タハラ | 1 | ![]() |
3 | 7(2815位) |
8774位 | 株式会社長尾製缶所 | 1 | - | 0 | 0(34904位) |
8774位 | 株式会社サンリュウ | 1 | - | 0 | 2(7654位) |
8774位 | 東和耐火工業株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 2(7654位) |
8774位 | イノー − ベヴ リミテッド | 1 | - | 0 | 0(34904位) |
8774位 | 國米 利江 | 1 | - | 0 | 0(34904位) |
8774位 | 花井 洋二 | 1 | - | 0 | 0(34904位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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