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- 2026年5月1日 更新 -
2020年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2020年 出願公開分 - データ更新日:2026年5月1日 -
| 順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2020年 特許取得件数 |
|---|---|---|---|---|---|
| 5465位 | 日本ポリケム株式会社 | 3 | - | 0 | 0(24204位) |
| 5465位 | 阿部 薫 | 3 | 12951位
|
1 | 0(24204位) |
| 5465位 | ノルウェージャン ユニバーシティ オブ サイエンス アンド テクノロジー(エヌティーエヌユー) | 3 | 4414位
|
4 | 0(24204位) |
| 5465位 | あすか製薬株式会社 | 3 | 5600位
|
3 | 1(8780位) |
| 5465位 | エクセン株式会社 | 3 | 12951位
|
1 | 1(8780位) |
| 5465位 | エヌジーエム バイオファーマシューティカルス,インコーポレーテッド | 3 | 5600位
|
3 | 3(4019位) |
| 5465位 | 戎屋化学工業株式会社 | 3 | 4414位
|
4 | 3(4019位) |
| 5465位 | ナノストリング テクノロジーズ,インコーポレイティド | 3 | 12951位
|
1 | 2(5436位) |
| 5465位 | コモン センシング インコーポレイテッド | 3 | 12951位
|
1 | 1(8780位) |
| 5465位 | AGC−LIXILウィンドウテクノロジー株式会社 | 3 | 12951位
|
1 | 1(8780位) |
| 5465位 | 石井 卯 | 3 | 12951位
|
1 | 3(4019位) |
| 5465位 | 日本フォームサービス株式会社 | 3 | 12951位
|
1 | 0(24204位) |
| 5465位 | オクシデンタル ケミカル コーポレイション | 3 | - | 0 | 0(24204位) |
| 5465位 | ダンフォス アクチ−セルスカブ | 3 | - | 0 | 6(2418位) |
| 5465位 | 株式会社浅沼技研 | 3 | 7654位
|
2 | 1(8780位) |
| 5465位 | ウーボ テク カンパニー リミテッド | 3 | 3170位
|
6 | 4(3265位) |
| 5465位 | エヌケイティー フォトニクス アクティーゼルスカブ | 3 | 4414位
|
4 | 3(4019位) |
| 5465位 | ユナイテッド ステイツ ポスタル サービス | 3 | 2815位
|
7 | 5(2756位) |
| 5465位 | 北村 修一 | 3 | 3655位
|
5 | 0(24204位) |
| 5465位 | 株式会社ミクロブ | 3 | 5600位
|
3 | 1(8780位) |
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2020年 特許登録分 - データ更新日:2026年5月1日 -
| 順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2020年 出願公開件数 |
|---|---|---|---|---|---|
| 8780位 | アレクサンダー・ボジチ | 1 | - | 0(33722位) | |
| 8780位 | シュアフラップ リミテッド | 1 | - | 0(33722位) | |
| 8780位 | ヒーマンノート カンパニー リミテッド | 1 | - | 0(33722位) | |
| 8781位 | 日本ポリケム株式会社 | 0 | - | 3(33723位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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