- 2025年8月22日 更新 -
2023年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2023年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2023年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
14015位 | 株式会社丸美屋 | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
14015位 | クリーンボックス テクノロジー, インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
14015位 | ソフィア、ジェネティックス、ソシエテ、アノニム | 1 | ![]() |
2 | 1(10364位) |
14015位 | ウエスト アンド ベリ ホールディング エービー | 1 | - | 0 | 2(6302位) |
14015位 | コロップ デジタル ゲーエムベーハー | 1 | - | 0 | 2(6302位) |
14015位 | エクソリューション ゲーエムベーハー | 1 | - | 0 | 1(10364位) |
14015位 | シナクト ファーマ エーピーエス | 1 | ![]() |
1 | 0(27627位) |
14015位 | シーティーエックスティー・ピーティーワイ・リミテッド | 1 | ![]() |
2 | 0(27627位) |
14015位 | エーツーエー ファーマシューティカルズ インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
14015位 | シャンハイ インリー ファーマシューティカル カンパニー リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(27627位) |
14015位 | ネオ・パフォーマンス・マテリアルズ(シンガポール)プライヴェト・リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(27627位) |
14015位 | アヴェラテック・コーポレイション | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
14015位 | サーキュラライズ ビーブイ | 1 | - | 0 | 1(10364位) |
14015位 | ▲リー▼陽天目先導電池材料科技有限公司 | 1 | ![]() |
2 | 3(4609位) |
14015位 | アガーウォール、ラケシュ | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
14015位 | プリオン インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
14015位 | イオシック エルティディ | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
14015位 | スバル株式会社 | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
14015位 | 株式会社ORC JAPAN | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
14015位 | 佐藤 吉男 | 1 | - | 0 | 0(27627位) |
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2023年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2023年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
10364位 | ディーアールエス ネットワーク アンド イメージング システムズ、リミテッド ライアビリティー カンパニー | 1 | - | 0 | 1(14015位) |
10364位 | 杭州安費諾飛鳳通信部品有限公司 | 1 | ![]() |
1 | 3(5948位) |
10364位 | クマクラ工業株式会社 | 1 | - | 0 | 1(14015位) |
10364位 | サノフィ パスツール ヴァックスデザイン コーポレーション | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | シガ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 1 | ![]() |
1 | 1(14015位) |
10364位 | ユニヴァーシティー オブ ウルサン ファウンデイション フォー インダストリー コーオペレイション | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | キュン ドン ワン コーポレーション | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | スパッタリング・コンポーネンツ・インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | プロメテウス アプライド テクノロジーズ,エルエルシー | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | ローゼン スイス アクチエンゲゼルシャフト | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | エコール ポリテクニーク フェデラル ドゥ ローザンヌ(エーペーエフエル) | 1 | ![]() |
2 | 0(35905位) |
10364位 | シリシウム エナジー,インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | 株式会社トップラン | 1 | ![]() |
1 | 1(14015位) |
10364位 | ザ ジョンズ ホプキンス ユニバーシティー | 1 | - | 0 | 2(8309位) |
10364位 | プリュール,アンドレ | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | ウニベルズィタイト・ヘント | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | ウニヴェルズィテート・ツューリヒ | 1 | ![]() |
2 | 0(35905位) |
10364位 | データバンク株式会社 | 1 | - | 0 | 1(14015位) |
10364位 | オカモト産業株式会社 | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | 株式会社ヒロタニ | 1 | ![]() |
1 | 0(35905位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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