- 2025年8月22日 更新 -
2023年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2023年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2023年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
14015位 | シンティル フォトニクス | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | ケプリオン,インク. | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | アルティネス・ソチエタ・ア・レスポンサビリタ・リミタータ | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | ルカティト インベストメンツ 12(プロプライエタリー)リミテッド | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | 広泰電機(呉江)有限公司 | 1 | - | 1(10364位) | |
14015位 | 社会福祉法人大翔会 | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | 有限会社イハヤ工業 | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | 斎藤 学 | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | Dr.TRUE合同会社 | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | 株式会社百福 | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | ユニマグテック株式会社 | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | テリオステック株式会社 | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | 松田 伸也 | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | カンリム インシュレーション カンパニー リミテッド | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | 株式会社EVERSTEEL | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | ハルディア ペトロケミカルズ リミテッド | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | アンタロス メディカル アクティエボラーグ | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | キュアイミューン セラピューティクス インク. | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | アイクール セラピューティクス,インコーポレイテッド | 1 | - | 0(27627位) | |
14015位 | ピーキューシールド エルティーディー | 1 | - | 0(27627位) |
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2023年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2023年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
10364位 | 井上 謙一 | 1 | ![]() |
1 | 0(35905位) |
10364位 | 吉川 理理子 | 1 | - | 0 | 2(8309位) |
10364位 | 荒川 正人 | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | イソフォル メディカル アクティエボラーグ | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | アイ・ホーム株式会社 | 1 | - | 0 | 1(14015位) |
10364位 | 株式会社オトングラス | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | エーディーワイ株式会社 | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | エヌエムイー ナトゥルヴィッセンシャフトリヘス ウント メディツィニシェス インスティトゥト アン ダー ウニヴェルジテート テュービンゲン | 1 | ![]() |
2 | 0(35905位) |
10364位 | アルコア ユーエスエイ コーポレイション | 1 | ![]() |
2 | 3(5948位) |
10364位 | 東莞寶トク電子有限公司 | 1 | ![]() |
5 | 0(35905位) |
10364位 | 株式会社KATOホールディングス | 1 | - | 0 | 1(14015位) |
10364位 | NEXT Creation’s株式会社 | 1 | - | 0 | 1(14015位) |
10364位 | 株式会社シンミドウ | 1 | ![]() |
1 | 0(35905位) |
10364位 | カトリック ユニヴェルシテット ルーヴェン カーユー ルーヴェン リサーチ アンド ディベロップメント | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | デリニア,インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | ヴィント プルス ゾンネ ゲー・エム・ベー・ハー | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
10364位 | ナノテック エナジー,インク. | 1 | - | 0 | 3(5948位) |
10364位 | シースター ケミカルズ ユーエルシー | 1 | ![]() |
1 | 1(14015位) |
10364位 | 合同会社ヒムカの夢郷 | 1 | ![]() |
1 | 0(35905位) |
10364位 | 株式会社E−システム | 1 | - | 0 | 0(35905位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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