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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第2239位 9件
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2017年: 0件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第399位 66件
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2017年: 0件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6441195 | 粒子検知装置 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6441250 | 半導体記憶装置 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6441251 | 集積回路 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6441252 | 熱レーザ刺激装置、熱レーザ刺激方法および記録媒体 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6436883 | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6437351 | 半導体記憶装置及び半導体装置の製造方法 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6437387 | 基板平坦化方法 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6437400 | パターン形成方法、スタンパの製造方法、およびデバイスの製造方法 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6437404 | 半導体装置の製造方法 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6437405 | 回転塗布方法および電子部品の製造方法 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6437406 | 半導体装置の製造方法、半導体装置、およびリードフレーム | 2018年12月12日 | |
| 特許 6437421 | 不揮発性半導体記憶装置 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6437428 | 不揮発性半導体メモリのコントローラ | 2018年12月12日 | |
| 特許 6437608 | 研磨装置、研磨方法、および研磨制御装置 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6433730 | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 | 2018年12月 5日 |
66 件中 16-30 件を表示
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6441195 6441250 6441251 6441252 6436883 6437351 6437387 6437400 6437404 6437405 6437406 6437421 6437428 6437608 6433730
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