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ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第3535位 5件
（
2014年：第5218位 3件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第2434位 6件
（2014年：第27207位 0件）
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ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5834140 | 材料を担体上に蒸着するための製造装置 | 2015年12月16日 | |
| 特許 5779099 | テトラクロロシランを用いて壁面析出を減少させる、流動床反応器によるシリコンの製造 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5762949 | 材料を蒸着するための製造装置及び当該装置において使用される電極 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5680093 | 電極を有するＣＶＤ装置 | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5680094 | ＣＶＤ装置 | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5674527 | 高温ガスとの接触に適した装置 | 2015年 2月25日 |
6 件中 1-6 件を表示
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5834140 5779099 5762949 5680093 5680094 5674527
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