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ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第3535位 5件
（
2014年：第5218位 3件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第2434位 6件
（2014年：第27207位 0件）
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ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2015-529185 | 先細り流動床反応器及びその使用のためのプロセス | 2015年10月 5日 | |
| 特表 2015-527490 | 材料を蒸着するための製造機器、その中で使用するための受け口、受け口の製造方法及び担体上に材料を蒸着する方法 | 2015年 9月17日 | |
| 特表 2015-506834 | 反応器内の表面を補修及び／又は保護する方法 | 2015年 3月 5日 | |
| 特開 2015-27940 | 汚染材料が高純度シリコンに寄与する不純物の量を決定する方法及び高純度シリコンを処理する炉 | 2015年 2月12日 | |
| 特開 2015-28217 | 材料を蒸着するための製造装置及び当該装置において使用される電極 | 2015年 2月12日 |
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2015-529185 2015-527490 2015-506834 2015-27940 2015-28217
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