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イェノプティック オプティカル システムズ ゲーエムベーハー
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第5492位 3件
（
2023年：第5948位 3件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第4647位 3件
（2023年：第6302位 2件）
（ランキング更新日：2025年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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イェノプティック オプティカル システムズ ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7541620 | 画像化装置を使用して測定位置内の少なくとも１つの測定対象物のシルエット輪郭を記録する方法 | 2024年 8月28日 | |
| 特許 7535201 | エッチングマスクの製造方法、構造体を基板にエッチングする方法、テトレル（ｔｅｔｒｅｌ）層の使用及びマスクを製造するための構造体 | 2024年 8月15日 | |
| 特許 7499983 | 光電子チップのためのウェハレベル試験方法 | 2024年 6月14日 |
3 件中 1-3 件を表示
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7541620 7535201 7499983
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日常実務の疑問点に答える著作権（周辺領域の商標・不正競争防止法を含む）に関するQ&A～日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Ｑ＆Ａ形式で平易に解説～
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