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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第63位 728件 (2016年:第83位 510件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第45位 566件 (2016年:第40位 668件)
(ランキング更新日:2024年12月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2016-121635 | マスクケース、保管装置及び方法、搬送装置及び方法、並びに露光装置 | 2017年11月16日 | |
再表 2016-121929 | 流体デバイス、温度制御装置、温度制御方法、核酸増幅装置および核酸増幅方法 | 2017年11月16日 | |
再表 2016-125281 | 構造化照明顕微鏡、観察方法、及び制御プログラム | 2017年11月16日 | |
特開 2017-203874 | レンズ鏡筒、光学機器及び重心位置低減装置 | 2017年11月16日 | |
特開 2017-204002 | 交換レンズおよびカメラボディ | 2017年11月16日 | |
特開 2017-204477 | 放電ランプ、露光装置及び露光方法 | 2017年11月16日 | |
特開 2017-204679 | 固体撮像素子及びこれを用いた撮像装置 | 2017年11月16日 | |
特開 2017-204869 | 再生処理装置、撮像装置および再生処理プログラム | 2017年11月16日 | |
特開 2017-201192 | 減速装置および光学機器 | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-201418 | スクリーンおよび投射システム | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-201426 | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-201429 | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-201553 | 電子機器 | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-201568 | 画像評価サーバ、及び画像評価システム | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-201760 | 撮像装置および測距装置 | 2017年11月 9日 |
761 件中 91-105 件を表示
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2016-121635 2016-121929 2016-125281 2017-203874 2017-204002 2017-204477 2017-204679 2017-204869 2017-201192 2017-201418 2017-201426 2017-201429 2017-201553 2017-201568 2017-201760
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12月24日(火) - 神奈川 川崎市
12月25日(水) -
12月25日(水) -
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