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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第70位 588件 (2018年:第58位 667件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第46位 507件 (2018年:第48位 535件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-117404 | 露光装置、並びにディスプレイ及びデバイスの製造方法 | 2019年 7月18日 | |
特開 2019-117409 | 投影露光装置 | 2019年 7月18日 | |
特開 2019-117417 | 露光装置 | 2019年 7月18日 | |
特開 2019-117418 | リソグラフィ装置の管理装置、該装置用のプログラム、露光システム、及びデバイス製造方法 | 2019年 7月18日 | |
特開 2019-118131 | 電子機器 | 2019年 7月18日 | |
再表 2018-61633 | ビーム走査装置およびパターン描画装置 | 2019年 7月11日 | |
再表 2018-61945 | 計測システム及び基板処理システム、並びにデバイス製造方法 | 2019年 7月11日 | |
再表 2018-62491 | 移動体装置、移動方法、露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、並びにデバイス製造方法 | 2019年 7月11日 | |
再表 2018-62558 | 撮像素子、焦点検出装置、及び、電子カメラ | 2019年 7月11日 | |
再表 2018-62559 | 撮像素子、焦点検出装置、及び、撮像装置 | 2019年 7月11日 | |
再表 2018-62561 | 撮像素子およびカメラ | 2019年 7月11日 | |
再表 2018-66648 | 変倍光学系および光学機器 | 2019年 7月11日 | |
再表 2018-66649 | 変倍光学系および光学機器 | 2019年 7月11日 | |
特開 2019-113575 | 光学系、光学機器、光学系の製造方法 | 2019年 7月11日 | |
特開 2019-113576 | 光学系、光学機器、光学系の製造方法 | 2019年 7月11日 |
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2019-117404 2019-117409 2019-117417 2019-117418 2019-118131 2018-61633 2018-61945 2018-62491 2018-62558 2018-62559 2018-62561 2018-66648 2018-66649 2019-113575 2019-113576
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1月11日(土) -
1月11日(土) -
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1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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