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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第105位 375件
(2020年:第83位 475件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第103位 270件
(2020年:第61位 411件)
(ランキング更新日:2025年3月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2021-140172 | 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | 2021年 9月16日 | |
特開 2021-140179 | 撮像素子、及び撮像装置 | 2021年 9月16日 | |
特開 2021-140189 | 放電ランプ | 2021年 9月16日 | |
再表 2020-66431 | エンコーダ、駆動装置、ロボット装置、制御システム及びその制御方法 | 2021年 9月 9日 | |
再表 2020-84983 | 基板貼り合わせ装置、算出装置、基板貼り合わせ方法および算出方法 | 2021年 9月 9日 | |
再表 2020-70877 | 画像処理装置、観察装置、画像処理方法及び画像処理プログラム | 2021年 9月 2日 | |
再表 2020-71484 | 化学物質のスクリーニング方法、プログラム、制御装置、及び培養観察装置 | 2021年 9月 2日 | |
再表 2020-105103 | 変倍光学系、光学機器および変倍光学系の製造方法 | 2021年 9月 2日 | |
再表 2020-105104 | 変倍光学系、光学機器および変倍光学系の製造方法 | 2021年 9月 2日 | |
特開 2021-129324 | 撮像素子および撮像装置 | 2021年 9月 2日 | |
再表 2020-54131 | 位相シフトマスクブランクス、位相シフトマスク、露光方法、デバイスの製造方法、位相シフトマスクブランクスの製造方法、及び、位相シフトマスクの製造方法 | 2021年 8月30日 | |
再表 2020-67503 | 撮像素子および撮像装置 | 2021年 8月30日 | |
特開 2021-122567 | 水晶体撮影装置、水晶体撮影方法、及び水晶体撮影プログラム | 2021年 8月30日 | |
特開 2021-123570 | アモルファスカーボン膜を有する部材、及びその製造方法 | 2021年 8月30日 | |
特開 2021-123571 | アモルファスカーボン膜を有する部材、及びその製造方法 | 2021年 8月30日 |
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2021-140172 2021-140179 2021-140189 2020-66431 2020-84983 2020-70877 2020-71484 2020-105103 2020-105104 2021-129324 2020-54131 2020-67503 2021-122567 2021-123570 2021-123571
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3月7日(金) - 東京 港区
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3月7日(金) -
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3月11日(火) - 東京 港区
3月11日(火) - 大阪 大阪市
特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ~コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説~
3月12日(水) - 東京 港区
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