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出願人名に「株式会社イー・エム・ディ」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5635367 | プラズマ処理装置 | 株式会社イー・エム・ディー | 2014年12月 3日 |
| 特許 5475506 | スパッタリング薄膜形成装置 | 株式会社イー・エム・ディー | 2014年 4月16日 |
| 特許 5462369 | プラズマ処理装置 | 株式会社イー・エム・ディー | 2014年 4月 2日 |
| 特許 5462368 | プラズマ処理装置 | 株式会社イー・エム・ディー | 2014年 4月 2日 |
| 特許 5400434 | プラズマ処理装置 | 株式会社イー・エム・ディー 他 | 2014年 1月29日 |
5 件中 1-5 件を表示
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5635367 5475506 5462369 5462368 5400434
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