昭和電工株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第116位 356件
（
2020年：第157位 279件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第157位 193件
（2020年：第163位 179件）
（ランキング更新日：2025年2月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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昭和電工株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6829783 | 耐熱性アルミニウム合金材の製造方法 | 2021年 2月10日 | |
| 特許 6824088 | 炭化珪素のエピタキシャル成長方法 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6826049 | 塩化水素混合物の製造方法 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6826694 | グリース組成物 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6820191 | 半導体ウェハの評価方法 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820675 | フラーレン誘導体および潤滑剤 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820785 | 炭化珪素単結晶の製造方法 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6821409 | 金属−炭素粒子複合材の製造方法 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6821479 | 塑性加工用素材、塑性加工体及び熱伝導体 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6822836 | 六方晶窒化ホウ素粉末、その製造方法、樹脂組成物及び樹脂シート | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6814561 | ガス配管システム、化学気相成長装置、成膜方法及びＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6814882 | サイジング剤及びその製造方法、並びに、繊維及び繊維トウ | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6815594 | ジエン化合物の製造方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6816920 | 六方晶窒化ホウ素粉末、その製造方法、樹脂組成物及び樹脂シート | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6817199 | オフセット印刷による絶縁性保護膜形成用組成物 | 2021年 1月20日 |
200 件中 181-195 件を表示
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6829783 6824088 6826049 6826694 6820191 6820675 6820785 6821409 6821479 6822836 6814561 6814882 6815594 6816920 6817199
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