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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第5104位 3件 (2023年:第14015位 1件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第9609位 1件 (2023年:第27627位 0件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-525321 | 化学機械平坦化(CMP)プロセスのin-situモニタリング方法及び装置 | 2024年 7月12日 | |
特開 2024-26436 | 向上したスループット及びプロセス柔軟性を備えたCMP機械 | 2024年 2月28日 | |
特表 2024-508767 | 基板研磨部品用の封じ込め及び排気システム | 2024年 2月28日 |
3 件中 1-3 件を表示
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2024-525321 2024-26436 2024-508767
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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