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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第5492位 3件
(2023年:第14015位 1件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第6346位 2件
(2023年:第27627位 0件)
(ランキング更新日:2025年5月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-525321 | 化学機械平坦化(CMP)プロセスのin-situモニタリング方法及び装置 | 2024年 7月12日 | |
特開 2024-26436 | 向上したスループット及びプロセス柔軟性を備えたCMP機械 | 2024年 2月28日 | |
特表 2024-508767 | 基板研磨部品用の封じ込め及び排気システム | 2024年 2月28日 |
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2024-525321 2024-26436 2024-508767
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5月12日(月) -
5月13日(火) - 東京 港区
5月14日(水) - 東京 港区
5月14日(水) -
5月15日(木) - 東京 港区
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月12日(月) -
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