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日本エー・エス・エム株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第7099位 2件
（
2010年：第7810位 2件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2389位 8件
（
2010年：第2005位 9件）
（ランキング更新日：2024年12月24日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日本エー・エス・エム株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-54968 | ＰＥＣＶＤによってＳｉ−Ｎ結合を有するコンフォーマルな誘電体膜を形成する方法 | 2011年 3月17日 | |
| 特開 2011-23718 | ＰＥＡＬＤによってＳｉ−Ｎ結合を有するストレス調節された誘電体膜を形成する方法 | 2011年 2月 3日 |
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2011-54968 2011-23718
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