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日本エー・エス・エム株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第7099位 2件
（
2010年：第7810位 2件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2389位 8件
（
2010年：第2005位 9件）
（ランキング更新日：2026年1月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日本エー・エス・エム株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4753224 | ガスラインシステム | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4744328 | クーリングステージを備えた半導体製造装置及びそれを使った半導体製造方法 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4743470 | 半導体基板上にＣｕ層と接触する膜を形成するための方法 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4737748 | ＣＶＤ法によるポリマー膜の形成方法 | 2011年 8月 3日 | |
| 特許 4727403 | 半導体デバイスの層間接続の形成方法及び装置 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4707959 | シャワープレート、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4651076 | 半導体基板上の絶縁膜の形成方法 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4633348 | 積層構造体の形成方法及び絶縁膜の集積方法 | 2011年 2月16日 |
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4753224 4744328 4743470 4737748 4727403 4707959 4651076 4633348
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