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日本エー・エス・エム株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第7099位 2件 上昇2010年:第7810位 2件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第2389位 8件 下降2010年:第2005位 9件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4753224 ガスラインシステム 2011年 8月24日
特許 4744328 クーリングステージを備えた半導体製造装置及びそれを使った半導体製造方法 2011年 8月10日
特許 4743470 半導体基板上にCu層と接触する膜を形成するための方法 2011年 8月10日
特許 4737748 CVD法によるポリマー膜の形成方法 2011年 8月 3日
特許 4727403 半導体デバイスの層間接続の形成方法及び装置 2011年 7月20日
特許 4707959 シャワープレート、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2011年 6月22日
特許 4651076 半導体基板上の絶縁膜の形成方法 2011年 3月16日
特許 4633348 積層構造体の形成方法及び絶縁膜の集積方法 2011年 2月16日

8 件中 1-8 件を表示

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4753224 4744328 4743470 4737748 4727403 4707959 4651076 4633348

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