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ジオマテック株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第4414位 4件
（
2018年：第5373位 3件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第5347位 2件
（2018年：第8638位 1件）
（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ジオマテック株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-214182 | モスアイ転写型、モスアイ転写型の製造方法及びモスアイ構造の転写方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-200369 | 表面微細構造の形成方法及び表面微細構造を備える物品 | 2019年11月21日 | |
| 特開 2019-190884 | 温度校正装置及び温度計測装置 | 2019年10月31日 | |
| 特開 2019-148532 | 流量計測方法及びその装置 | 2019年 9月 5日 | |
| 特開 2019-101220 | フォトマスク用基板、フォトマスク及びフォトマスクの製造方法 | 2019年 6月24日 | |
| 特開 2019-61975 | 樹脂基板積層体及び電子デバイスの製造方法 | 2019年 4月18日 |
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2019-214182 2019-200369 2019-190884 2019-148532 2019-101220 2019-61975
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