ホーム > 特許ランキング > パウダーテック株式会社 > 2021年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(パウダーテック株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第4140位 4件
(
2020年:第5258位 3件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1703位 10件
(
2020年:第2753位 5件)
(ランキング更新日:2026年10月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-193062 | フェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア、電子写真現像剤及びフェライト粒子の製造方法 | 2021年12月23日 | |
| 再表 2020-166654 | キャリア、電子写真用現像剤及びキャリアの製造方法 | 2021年12月 9日 | |
| 再表 2020-158519 | フェライト複合粉末、フェライト成型体の製造方法、フェライト焼結体の製造方法、成型体、及び焼結体 | 2021年12月 2日 | |
| 再表 2020-158520 | 電極形成材料、電極の製造方法及び電極 | 2021年12月 2日 | |
| 特開 2021-90964 | 有機系脱酸素剤 | 2021年 6月17日 | |
| 特開 2021-88487 | フェライト混合粉、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤 | 2021年 6月10日 | |
| 再表 2019-198304 | フェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用フェライトキャリア及び電子写真現像剤 | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-66648 | フェライト粉末及びその製造方法 | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-63895 | キャリア、現像剤、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 | 2021年 4月22日 | |
| 再表 2019-146661 | 複合粒子、粉末、樹脂組成物および成形体 | 2021年 3月25日 | |
| 再表 2019-159796 | Mn−Mg系フェライト粉末、樹脂組成物、電磁波シールド材、電子材料および電子部品 | 2021年 3月18日 | |
| 再表 2020-175326 | フェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤 | 2021年 3月11日 | |
| 再表 2020-175336 | フェライト粒子、電子写真現像剤用キャリア芯材、電子写真現像剤用キャリア及び電子写真現像剤 | 2021年 3月11日 | |
| 再表 2019-159797 | Mnフェライト粉末、樹脂組成物、電磁波シールド材、電子材料および電子部品 | 2021年 3月 4日 | |
| 再表 2019-159799 | 複合粒子、粉末、樹脂組成物および成形体 | 2021年 3月 4日 |
5 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2021-193062 2020-166654 2020-158519 2020-158520 2021-90964 2021-88487 2019-198304 2021-66648 2021-63895 2019-146661 2019-159796 2020-175326 2020-175336 2019-159797 2019-159799
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。
10月26日(月) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
商標的使用論・商標機能論・商標法26条・権利濫用論等の違いからみた『商標権侵害と対応策』 ~どのように攻め、どのように守るか~
10月26日(月) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
10月27日(火) - 東京 千代田
10月27日(火) - 千葉 千葉市
10月27日(火) - 東京 港区
10月28日(水) - オンライン
英文契約の実務(基礎から読解・作成のポイントまで)―日本語契約との違いや起こりやすいトラブル、悩ましい英文も解説します―
10月28日(水) - オンライン
最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国) ~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
10月28日(水) - 東京 千代田
10月28日(水) - オンライン
10月28日(水) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月30日(金) - オンライン
10月26日(月) - オンライン