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エスピーティーエス テクノロジーズ リミティド
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第3054位 6件
（
2017年：第4465位 4件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第8638位 1件
（2017年：第24017位 0件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エスピーティーエス テクノロジーズ リミティドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2018-207109 | プラズマエッチング方法及びプラズマダイシング方法 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-133560 | 半導体基板を電気化学的に処理するための装置 | 2018年 8月23日 | |
| 特開 2018-110217 | 表面平滑化方法 | 2018年 7月12日 | |
| 特開 2018-85498 | ウェハ基板の変形を監視及び制御する方法及びシステム | 2018年 5月31日 | |
| 特開 2018-14538 | エッチング装置及び方法 | 2018年 1月25日 | |
| 特開 2018-6758 | 状態検出方法 | 2018年 1月11日 |
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2018-207109 2018-133560 2018-110217 2018-85498 2018-14538 2018-6758
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