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エーピー システムズ インコーポレイテッド
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第5643位 3件
（
2016年：第5242位 3件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第24017位 0件
（2016年：第4304位 3件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーピー システムズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-196665 | レーザー処理装置及びレーザー処理方法 | 2017年11月 2日 | |
| 特開 2017-128803 | 保護膜の蒸着装置及び保護膜の蒸着方法 | 2017年 7月27日 | |
| 特開 2017-50859 | 高周波電源供給装置及びこれを備える基板処理装置 | 2017年 3月 9日 |
3 件中 1-3 件を表示
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2017-196665 2017-128803 2017-50859
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