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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第1716位 10件
(
2025年:第2221位 9件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第8348位 1件
(
2025年:第2960位 5件)
(ランキング更新日:2026年10月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-130309 | 二次電池製造システム | 2026年 8月13日 | |
| 特開 2026-128298 | 情報処理装置、細胞処理システム、情報処理方法、及びプログラム | 2026年 8月 7日 | |
| 特開 2026-105176 | レーザ加工装置およびレーザ溶接装置 | 2026年 6月26日 | |
| 特開 2026-101489 | 情報処理装置、細胞処理システム、情報処理方法、およびプログラム | 2026年 6月22日 | |
| 特開 2026-101524 | 情報処理装置、細胞処理システム、情報処理方法、およびプログラム | 2026年 6月22日 | |
| 特開 2026-100293 | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 | 2026年 6月19日 | |
| 特開 2026-56820 | 情報処理装置、細胞処理システム、および情報処理方法 | 2026年 4月 2日 | |
| 特開 2026-54472 | 二次電池の検査装置および二次電池の検査システム | 2026年 3月27日 | |
| 特開 2026-48058 | 光学観察装置および光学観察装置で用いられる撮像方法 | 2026年 3月16日 | |
| 特開 2026-44344 | 姿勢検出装置、二次電池の製造装置および二次電池の製造システム | 2026年 3月12日 | |
| 特開 2026-11741 | 光学観察装置および光学観察装置で用いられる撮像方法 | 2026年 1月23日 |
11 件中 1-11 件を表示
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2026-130309 2026-128298 2026-105176 2026-101489 2026-101524 2026-100293 2026-56820 2026-54472 2026-48058 2026-44344 2026-11741
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