| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 4813789 | ジイモニウム塩化合物、該化合物を含有する近赤外線吸収剤および近赤外線カットフィルター | 山本化成株式会社 | 2011年11月 9日 |
| 特許 4790631 | ポリメチン系化合物の非溶媒和型結晶、その製造方法及び用途 | 山本化成株式会社 | 2011年10月12日 |
| 特許 4769242 | 高分子化合物、および該高分子化合物を含有する有機電界発光素子 | 山本化成株式会社 | 2011年 9月 7日 |
| 特許 4758682 | ベンゼンジチオール金属錯体及びその製造方法 | 山本化成株式会社 | 2011年 8月31日 |
| 特許 4751644 | テトラアザポルフィリン化合物の製造方法 | 山本化成株式会社 | 2011年 8月17日 |
| 特許 4657768 | トリメチン系化合物及びこれを用いた光記録媒体 | 山本化成株式会社 | 2011年 3月23日 |
| 特許 4658805 | ポリメチン系エーテル化合物 | 山本化成株式会社 | 2011年 3月23日 |
| 特許 4617029 | 光学フィルター | 山本化成株式会社 | 2011年 1月19日 |
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12月16日(火) - 東京 千代田区
12月16日(火) -
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12月17日(水) -
12月17日(水) -
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12月17日(水) -
12月18日(木) -
12月18日(木) -
12月18日(木) -
12月19日(金) - 山口 山口市
12月19日(金) - 東京 千代田区
12月19日(金) - 大阪 大阪市
【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
12月19日(金) - 神奈川 川崎市
12月19日(金) -
12月19日(金) -
12月19日(金) -
12月19日(金) -
12月22日(月) -
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12月23日(火) -
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12月23日(火) -
12月23日(火) -
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12月24日(水) -
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