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ワイシーケム カンパニー リミテッド
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第4178位 1件
（
2025年：第2962位 6件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第1494位 3件
（
2025年：第4386位 3件）
（ランキング更新日：2026年4月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ワイシーケム カンパニー リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7834260 | 半導体工程用研磨組成物及びこれを用いた基板の製造方法 | 2026年 3月24日 | |
| 特許 7825210 | 半導体工程用研磨組成物及びこれを用いた基板の研磨方法 | 2026年 3月 6日 | |
| 特許 7811661 | 高平坦化性能を有するスピンオンカーボンハードマスク組成物、及びこれを用いたパターン化方法 | 2026年 2月 5日 |
3 件中 1-3 件を表示
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7834260 7825210 7811661
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