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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1443位 15件
(
2024年:第7652位 2件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第26521位 0件
(
2024年:第27650位 0件)
(ランキング更新日:2026年10月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2025-181749 | 同軸作動システムを備えたエピタキシャル反応器のためのウエハカセットのローディングおよびアンローディングシステム、ならびにエピタキシャル反応器 | 2025年12月11日 | |
| 特開 2025-160129 | 高品質の立方晶炭化ケイ素を得るための方法およびシステム | 2025年10月22日 | |
| 特開 2025-141912 | 半導体膜のエピタキシャル堆積に適した反応器部品のための単結晶コーティング | 2025年 9月29日 | |
| 特開 2025-118542 | 反応器ケーシングアセンブリ | 2025年 8月13日 | |
| 特開 2025-84116 | 取り外し可能な反応部 | 2025年 6月 2日 | |
| 特開 2025-84117 | エピタキシャル反応器の取り外し可能な反応部用の自動システム | 2025年 6月 2日 | |
| 特開 2025-84118 | 取り外し可能なエピタキシャル反応部を取り扱うためのマルチチャンバアセンブリ | 2025年 6月 2日 | |
| 特開 2025-78611 | 半導体膜のエピタキシャル堆積のための高速冷却反応器 | 2025年 5月20日 | |
| 特開 2025-76367 | 基板上への半導体材料のエピタキシャル堆積のための2室反応器 | 2025年 5月15日 | |
| 特開 2025-71013 | エピタキシャル堆積反応器で使用される基材の角速度測定システム | 2025年 5月 2日 | |
| 特開 2025-69089 | 半導体デバイスを製造するための装置 | 2025年 4月30日 | |
| 特開 2025-65032 | エピタキシャル反応器のためのウエハカセットのローディングおよびアンローディングシステム、ならびにエピタキシャル反応器 | 2025年 4月17日 | |
| 特開 2025-41560 | 反応チャンバ用の摺動スレッジを有する基材上の半導体材料のエピタキシャル堆積のための反応器 | 2025年 3月26日 | |
| 特開 2025-26342 | 活性層を順番に成長させるためのプロセス | 2025年 2月21日 | |
| 特開 2025-19007 | エピタキシャル反応器のためのウエハローディングおよびアンローディングシステム、ならびにエピタキシャル反応器 | 2025年 2月 6日 |
15 件中 1-15 件を表示
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2025-181749 2025-160129 2025-141912 2025-118542 2025-84116 2025-84117 2025-84118 2025-78611 2025-76367 2025-71013 2025-69089 2025-65032 2025-41560 2025-26342 2025-19007
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