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カティーバ, インコーポレイテッド

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  2024年 出願公開件数ランキング    第1501位 13件 下降2023年:第1185位 21件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第1282位 14件 上昇2023年:第1732位 11件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-150497 工業印刷システムにおける液滴パラメータの高速測定 2024年10月23日
特表 2024-532320 インクジェットプリンタ用液滴滴下分析装置のテスト基材 2024年 9月 5日
特表 2024-532321 インクジェット印刷システム用液滴滴下分析装置 2024年 9月 5日
特表 2024-531126 基材位置調整機能を有する基材準備チャンバ 2024年 8月29日
特表 2024-531476 リニアスライド機構を備える基材ホルダ 2024年 8月29日
特開 2024-109571 ナノ粒子可溶化マルチアミン配位子、および配位子被覆ナノ粒子を含有するインク組成物 2024年 8月14日
特開 2024-91638 改良された速度および正確さをともなう永久層の整列印刷のための技術 2024年 7月 5日
特開 2024-56693 プリントヘッド調整装置、システム、および方法 2024年 4月23日
特開 2024-55887 撮像装置を用いた吐出制御 2024年 4月19日
特開 2024-45188 パターン形成された有機発光ダイオードの配合物を乾燥させるシステム 2024年 4月 2日
特開 2024-45238 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法 2024年 4月 2日
特開 2024-45259 輸送経路相関技術および関連するシステム、方法、およびデバイス 2024年 4月 2日
特開 2024-1010 ハーフトーニングを用いて厚さを制御するインクベース層加工方法および装置 2024年 1月 9日

13 件中 1-13 件を表示

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2024-150497 2024-532320 2024-532321 2024-531126 2024-531476 2024-109571 2024-91638 2024-56693 2024-55887 2024-45188 2024-45238 2024-45259 2024-1010

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