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アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド

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  2015年 出願公開件数ランキング    第1509位 16件 上昇2014年: 0件)

  2015年 特許取得件数ランキング    第1854位 9件 上昇2014年: 0件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2015-205733 実質的に剛性の圧潰可能ライナー、容器および/またはガラス瓶代替のためのライナーならびに強化剛性ライナー 2015年11月19日
特開 2015-178391 流体処理システム及び方法 2015年10月 8日
特開 2015-163401 空検出機能付きライナ式液体保存・分配システム 2015年 9月10日
特開 2015-157286 空検出機能付きライナ式液体保存・分配システム 2015年 9月 3日
特表 2015-524165 有機残渣除去を改良するための銅エッチングレートの低い水性洗浄溶液 2015年 8月20日
特表 2015-519478 バッチ蒸着のための高材料流束によるソース試薬に基づく流体の送出 2015年 7月 9日
特開 2015-122534 イオン注入システム中のイオン源の寿命および性能を向上させる方法および装置 2015年 7月 2日
特開 2015-110452 返却可能かつ再使用可能なバッグインドラム流体貯蔵および分配容器システム 2015年 6月18日
特表 2015-515374 アセチレンの貯蔵および安定化 2015年 5月28日
特開 2015-99938 銅配線半導体用洗浄剤 2015年 5月28日
特開 2015-42566 実質的に剛性で折り畳み可能なライナー、フレキシブルな襠付きまたは襠無しライナー、それらの製造方法、及びライナーにおけるチョークオフ抑制方法 2015年 3月 5日
特開 2015-42751 CMP後洗浄配合物用の新規な酸化防止剤 2015年 3月 5日
特表 2015-504028 オーバーパックとの使用のための折り畳まれたライナーおよびそれを製造する方法 2015年 2月 5日
特開 2015-26623 半導体処理システムにおけるイオン源の洗浄 2015年 2月 5日
特表 2015-501766 ライナベースの移送および分配コンテナのための閉塞具/コネクタおよびライナベースの移送および分配コンテナを充填する方法 2015年 1月19日

16 件中 1-15 件を表示

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2015-205733 2015-178391 2015-163401 2015-157286 2015-524165 2015-519478 2015-122534 2015-110452 2015-515374 2015-99938 2015-42566 2015-42751 2015-504028 2015-26623 2015-501766

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