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ゲーエスイー ヘルムホルッツェントゥルム フュア シュヴェリオネンフォルシュンク ゲーエムベーハー
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第34787位 0件
（
2016年：第12189位 1件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第3281位 4件
（
2016年：第5777位 2件）
（ランキング更新日：2025年3月24日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ゲーエスイー ヘルムホルッツェントゥルム フュア シュヴェリオネンフォルシュンク ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6140683 | 照射設備およびこれを制御するための制御方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6117367 | 照射計画方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6105081 | 標的体積の動きを考慮に入れた粒子線照射の照射計画 | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6105285 | 粒子線による再スキャン方法のための照射または照射計画 | 2017年 3月29日 |
4 件中 1-4 件を表示
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6140683 6117367 6105081 6105285
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