公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特許 5095524 | プラズマCVD装置及び磁気記録媒体の製造方法 | 株式会社ユーテック | 2012年12月12日 |
特許 5090948 | プラズマCVD装置及びフッ化有機膜、シランカップリング基を有する有機膜 | 株式会社ユーテック | 2012年12月 5日 |
特許 5002715 | 油圧回路に用いる止弁 | 株式会社ユーテック | 2012年 8月15日 |
特許 4909742 | 蒸発源及び蒸着装置 | 株式会社ユーテック | 2012年 4月 4日 |
特許 4909523 | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 | 株式会社ユーテック | 2012年 4月 4日 |
特許 4908234 | 蒸発源及び蒸着装置 | 株式会社ユーテック | 2012年 4月 4日 |
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5095524 5090948 5002715 4909742 4909523 4908234
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4月4日(金) -
4月4日(金) -
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー|知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時~〉
4月11日(金) -
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