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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「株式会社ユーテック」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5366157 | 加圧式ランプアニール装置 | 株式会社ユーテック | 2013年12月11日 |
| 特許 5351116 | 油圧シリンダ駆動回路用のフラッシング回路 | 株式会社ユーテック | 2013年11月27日 |
| 特許 5354422 | ローラ式プラズマＣＶＤ装置及びローラ式プラズマ装置 | 株式会社ユーテック | 2013年11月27日 |
| 特許 5286519 | ＤＬＣ膜、樹脂膜及び表面処理方法 | 株式会社ユーテック | 2013年 9月11日 |
| 特許 5277442 | 微粒子 | 株式会社ユーテック | 2013年 8月28日 |
| 特許 5256466 | 成膜装置及び酸化物薄膜成膜用基板の製造方法 | 株式会社ユーテック | 2013年 8月 7日 |
| 特許 5256475 | 対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 | 株式会社ユーテック | 2013年 8月 7日 |
| 特許 5256441 | 透明樹脂積層体及びその製造方法 | 株式会社ユーテック | 2013年 8月 7日 |
| 特許 5237999 | マイクロカプセル及びその製造方法 | 株式会社ユーテック 他 | 2013年 7月17日 |
| 特許 5218942 | プラズマＣＶＤ装置、プラズマＣＶＤ方法及び攪拌装置 | 株式会社ユーテック | 2013年 6月26日 |
| 特許 5209954 | 成膜処理用治具及びプラズマＣＶＤ装置 | 株式会社ユーテック 他 | 2013年 6月12日 |
| 特許 5211332 | プラズマＣＶＤ装置、ＤＬＣ膜及び薄膜の製造方法 | 株式会社ユーテック | 2013年 6月12日 |
| 特許 5194226 | プラズマ処理装置 | 株式会社ユーテック | 2013年 5月 8日 |
| 特許 5164107 | プラズマＣＶＤ装置、薄膜の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法 | 株式会社ユーテック | 2013年 3月13日 |
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5366157 5351116 5354422 5286519 5277442 5256466 5256475 5256441 5237999 5218942 5209954 5211332 5194226 5164107
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