出願人名に「株式会社エスケー」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-252953 | フォトマスクの製造方法、フォトマスクおよびフォトマスクの製造装置 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | 2011年12月15日 |
| 再表 2009-157091 | ソーチェンの研磨機 | 株式会社エスケー | 2011年12月 1日 |
| 特開 2011-186506 | 中間調フォトマスク | 株式会社エスケーエレクトロニクス | 2011年 9月22日 |
| 特開 2011-186253 | 平面基板およびその製造方法 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | 2011年 9月22日 |
| 特開 2011-162237 | 可搬容器 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | 2011年 8月25日 |
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2011-252953 2009-157091 2011-186506 2011-186253 2011-162237
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