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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「株式会社エスケー」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-153435 | フォトマスク及びそのフォトマスクの製造方法 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | 2014年 8月25日 |
| 特開 2014-95827 | レーザ描画装置及びレーザ描画方法 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | 2014年 5月22日 |
| 特開 2014-74827 | エッジ強調型位相シフトマスクの製造方法及びエッジ強調型位相シフトマスク | 株式会社エスケーエレクトロニクス | 2014年 4月24日 |
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2014-153435 2014-95827 2014-74827
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