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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特許 5305319 | 高清浄/低研磨シリカ材料およびそのような材料を含有する歯磨剤 | ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション | 2013年10月 2日 |
特許 5257862 | 歯磨き剤組成物の製法及びその生成物 | ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション | 2013年 8月 7日 |
特許 5257861 | 研磨剤組成物およびその製法 | ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション | 2013年 8月 7日 |
特許 5257864 | ケイ酸塩の製造中にケイ酸塩源から重金属を除去する方法 | ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション | 2013年 8月 7日 |
特許 5257863 | ケイ酸塩の製造中にケイ酸塩源から重金属を除去する方法 | ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション | 2013年 8月 7日 |
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5305319 5257862 5257861 5257864 5257863
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4月23日(水) -
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4月23日(水) -
4月23日(水) - 東京 千代田区
4月23日(水) -
4月23日(水) -
4月24日(木) - 東京 港区
4月24日(木) -
4月24日(木) -
4月24日(木) -
4月25日(金) -
4月23日(水) -
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