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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第12189位 1件
(
2015年:第11806位 1件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2983位 5件
(
2015年:第3293位 4件)
(ランキング更新日:2026年3月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5979626 | 像内の構造の位置を決定する方法及び該方法を実施するための位置測定装置 | 2016年 8月24日 | |
| 特許 5943524 | 物体を検査するための装置及び方法 | 2016年 7月 5日 | |
| 特許 5930022 | 集束粒子ビームを用いて基板を処理する方法及び装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5928735 | EUVマスク欠陥の分析及び/又は修復の方法及び装置 | 2016年 6月 1日 | |
| 特許 5896540 | 粒子ビームを用いた処理中に基板を保護する方法及び装置 | 2016年 3月30日 |
5 件中 1-5 件を表示
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5979626 5943524 5930022 5928735 5896540
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