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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1334位 19件
(2015年:第1452位 17件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2385位 7件
(2015年:第1060位 19件)
(ランキング更新日:2025年6月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2016-539005 | 粗面を有する基板の内部にマーキングを施すための方法及び装置 | 2016年12月15日 | |
特表 2016-528048 | 薄層の内部にマーキングするためのレーザシステム並びに方法及びこれにより作製される対象物 | 2016年 9月15日 | |
特開 2016-153142 | 円状及びスパイラル形の軌道において正確にタイミングを図ったレーザパルスを移動することによって穴を形成する方法。 | 2016年 8月25日 | |
特表 2016-519289 | 画像認識に基づくアブレーションパターン位置の再現 | 2016年 6月30日 | |
特表 2016-518024 | 超短レーザパルスを生成するための装置及び方法 | 2016年 6月20日 | |
特表 2016-517352 | AOD移動減少用AODツール整定のためのレーザシステム及び方法 | 2016年 6月16日 | |
特表 2016-517523 | 熱的影響を低減するためのレーザサンプリング方法 | 2016年 6月16日 | |
特表 2016-517546 | レーザビーム位置決めシステムのためのフェーズドアレイステアリング | 2016年 6月16日 | |
特表 2016-516584 | テーパ制御のためのビーム角度とワークピース移動の連係方法 | 2016年 6月 9日 | |
特表 2016-516585 | ビームポジショナのレーザ出射に基づく制御 | 2016年 6月 9日 | |
特表 2016-514287 | 液晶ディスプレイパネルの偏光補償多重スペクトルレーザ修復を提供するためのシステム及び装置 | 2016年 5月19日 | |
特表 2016-513254 | 組成分析システムのためのレーザアブレーションセル及びトーチシステム | 2016年 5月12日 | |
特開 2016-74040 | レーザ加工のための方法および装置 | 2016年 5月12日 | |
特表 2016-512792 | AODラウト加工用レーザシステム及び方法 | 2016年 5月 9日 | |
特表 2016-510105 | チャンバ内流体処理システム及びこれを用いて流体を処理する方法 | 2016年 4月 4日 |
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