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出願人名に「日本アエロジル株式会社」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5099465 | 低塩素二酸化チタンの製造方法。 | 日本アエロジル株式会社 | 2012年12月19日 |
| 特許 5003988 | 表面改質無機酸化物粉末とその製造方法および用途 | 日本アエロジル株式会社 | 2012年 8月22日 |
| 特許 4968569 | 高分散性疎水性シリカ微粉末とその製造方法 | 日本アエロジル株式会社 | 2012年 7月 4日 |
| 特許 4936237 | 正帯電性疎水性酸化チタン微粉末とその製法および用途 | 日本アエロジル株式会社 | 2012年 5月23日 |
| 特許 4904567 | 非晶質微細シリカ粒子とその用途 | 日本アエロジル株式会社 | 2012年 3月28日 |
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5099465 5003988 4968569 4936237 4904567
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