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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第74位 541件
(2015年:第98位 444件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第39位 669件
(2015年:第46位 497件)
(ランキング更新日:2025年3月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2016-118761 | 偏光板及びその製造方法、並びに偏光板のセット、液晶パネル、液晶表示装置 | 2016年 6月30日 | |
特開 2016-118771 | プロテクトフィルム付偏光板及びそれを含む積層体 | 2016年 6月30日 | |
特開 2016-118776 | プロテクトフィルム付偏光板及びそれを含む積層体 | 2016年 6月30日 | |
特開 2016-118779 | 光硬化性接着剤、それを用いた偏光板および積層光学部材 | 2016年 6月30日 | |
特開 2016-118804 | 偏光板の製造方法 | 2016年 6月30日 | |
特開 2016-119348 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年 6月30日 | |
特開 2016-119364 | 半導体トランジスタ用エピタキシャルウェハ及び半導体トランジスタ | 2016年 6月30日 | |
再表 2014-10511 | 偏光板の製造方法 | 2016年 6月23日 | |
特表 2016-518309 | ピリダジン化合物の製造方法 | 2016年 6月23日 | |
特開 2016-112682 | 切削加工方法及び切削加工装置、光学部材の製造方法 | 2016年 6月23日 | |
特開 2016-113426 | テトラゾリノン化合物の製造方法 | 2016年 6月23日 | |
特開 2016-113434 | 化合物、該化合物と高分子化合物を含む組成物、該化合物を含む有機薄膜および有機半導体素子 | 2016年 6月23日 | |
特開 2016-113450 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2016年 6月23日 | |
特開 2016-113454 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 | 2016年 6月23日 | |
特開 2016-113574 | 組成物およびそれを用いた有機半導体素子 | 2016年 6月23日 |
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2016-118761 2016-118771 2016-118776 2016-118779 2016-118804 2016-119348 2016-119364 2014-10511 2016-518309 2016-112682 2016-113426 2016-113434 2016-113450 2016-113454 2016-113574
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特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ~コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説~
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