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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第4130位 4件
(
2024年:第4317位 4件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第2909位 5件
(
2024年:第6346位 2件)
(ランキング更新日:2025年12月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7735202 | イオン照射方法 | 2025年 9月 8日 | |
| 特許 7711274 | 半導体装置の製造方法 | 2025年 7月22日 | |
| 特許 7650743 | 中性子プロファイル測定装置および中性子プロファイル測定方法 | 2025年 3月25日 | |
| 特許 7630934 | 半導体装置の製造方法 | 2025年 2月18日 | |
| 特許 7612393 | イオン照射方法およびウェハマスク装置 | 2025年 1月14日 |
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7735202 7711274 7650743 7630934 7612393
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