株式会社ユーテック
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1503位 18件
（
2016年：第2477位 8件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1911位 9件
（
2016年：第1218位 17件）
（ランキング更新日：2025年6月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ユーテックの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2016-121204 | 加圧式ランプアニール装置、強誘電体膜及びその製造方法 | 2017年12月21日 | |
| 再表 2016-132562 | 撥水性高硬度膜、金型及び撥水性高硬度膜の製造方法 | 2017年12月14日 | |
| 再表 2016-135989 | 真空式洗浄装置及び真空式洗浄方法 | 2017年12月14日 | |
| 特開 2017-200684 | 分離膜及び溶質分離モジュール | 2017年11月 9日 | |
| 特開 2017-200685 | 分離方法及び分離膜の製造方法 | 2017年11月 9日 | |
| 特開 2017-193783 | プラズマＣＶＤ装置及び膜の製造方法 | 2017年10月26日 | |
| 特開 2017-195374 | 配向膜基板の製造方法、スパッタリング装置及びマルチチャンバー装置 | 2017年10月26日 | |
| 特開 2017-179612 | 成膜方法 | 2017年10月 5日 | |
| 特開 2017-137542 | プラズマＣＶＤ装置、磁気記録媒体の製造方法及び成膜方法 | 2017年 8月10日 | |
| 特開 2017-128816 | 配向基板、配向膜基板の製造方法、スパッタリング装置及びマルチチャンバー装置 | 2017年 7月27日 | |
| 特開 2017-112306 | 膜構造体、アクチュエータ、モータ及び膜構造体の製造方法 | 2017年 6月22日 | |
| 特開 2017-106125 | 配向基板、配向膜基板の製造方法、スパッタリング装置及びマルチチャンバー装置 | 2017年 6月15日 | |
| 再表 2015-194031 | プラズマＣＶＤ装置及び磁気記録媒体の製造方法 | 2017年 5月25日 | |
| 再表 2016-9698 | 強誘電体セラミックス及びその製造方法 | 2017年 4月27日 | |
| 特開 2017-59751 | 強誘電体メモリ及びその製造方法、強誘電体膜及びその製造方法 | 2017年 3月23日 |
19 件中 1-15 件を表示
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2016-121204 2016-132562 2016-135989 2017-200684 2017-200685 2017-193783 2017-195374 2017-179612 2017-137542 2017-128816 2017-112306 2017-106125 2015-194031 2016-9698 2017-59751
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