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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1503位 18件 (2016年:第2477位 8件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1911位 9件 (2016年:第1218位 17件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2016-121204 | 加圧式ランプアニール装置、強誘電体膜及びその製造方法 | 2017年12月21日 | |
再表 2016-132562 | 撥水性高硬度膜、金型及び撥水性高硬度膜の製造方法 | 2017年12月14日 | |
再表 2016-135989 | 真空式洗浄装置及び真空式洗浄方法 | 2017年12月14日 | |
特開 2017-200684 | 分離膜及び溶質分離モジュール | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-200685 | 分離方法及び分離膜の製造方法 | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-193783 | プラズマCVD装置及び膜の製造方法 | 2017年10月26日 | |
特開 2017-195374 | 配向膜基板の製造方法、スパッタリング装置及びマルチチャンバー装置 | 2017年10月26日 | |
特開 2017-179612 | 成膜方法 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-137542 | プラズマCVD装置、磁気記録媒体の製造方法及び成膜方法 | 2017年 8月10日 | |
特開 2017-128816 | 配向基板、配向膜基板の製造方法、スパッタリング装置及びマルチチャンバー装置 | 2017年 7月27日 | |
特開 2017-112306 | 膜構造体、アクチュエータ、モータ及び膜構造体の製造方法 | 2017年 6月22日 | |
特開 2017-106125 | 配向基板、配向膜基板の製造方法、スパッタリング装置及びマルチチャンバー装置 | 2017年 6月15日 | |
再表 2015-194031 | プラズマCVD装置及び磁気記録媒体の製造方法 | 2017年 5月25日 | |
再表 2016-9698 | 強誘電体セラミックス及びその製造方法 | 2017年 4月27日 | |
特開 2017-59751 | 強誘電体メモリ及びその製造方法、強誘電体膜及びその製造方法 | 2017年 3月23日 |
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2016-121204 2016-132562 2016-135989 2017-200684 2017-200685 2017-193783 2017-195374 2017-179612 2017-137542 2017-128816 2017-112306 2017-106125 2015-194031 2016-9698 2017-59751
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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9月25日(水) -
9月25日(水) - 愛知 名古屋市
9月25日(水) - 東京 千代田区
9月25日(水) - 東京 千代田区
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9月26日(木) -
9月27日(金) -
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9月27日(金) - 東京 港区
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