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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第3759位 5件 (2016年:第7297位 2件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第5450位 2件 (2016年:第2983位 5件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2017-530341 | レンズ及びレンズ金型の光学評価 | 2017年10月12日 | |
特表 2017-529524 | レンズ及びレンズ金型の光学評価 | 2017年10月 5日 | |
特表 2017-522559 | スペクトルを用いた干渉計エンコーダ | 2017年 8月10日 | |
特表 2017-516129 | リソグラフィ用フォトマスク | 2017年 6月15日 | |
特表 2017-505434 | 非球面およびその他の非平坦面のトポグラフィの測定 | 2017年 2月16日 |
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2017-530341 2017-529524 2017-522559 2017-516129 2017-505434
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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