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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第675位 40件
(
2019年:第1047位 25件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第843位 24件
(
2019年:第2665位 5件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6804691 | ポリカルボシランを含んでなるシリコンカーバイド質膜形成組成物、およびそれを用いたシリコンカーバイド質膜の製造方法 | 2020年12月23日 | |
| 特許 6801077 | LED封止材料のための配合物 | 2020年12月16日 | |
| 特許 6790178 | 複素環式スピロ化合物 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6790107 | 微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 | 2020年11月25日 | |
| 特許 6786591 | 有機エレクトロルミネッセンス素子のためのフェノキサジン誘導体 | 2020年11月18日 | |
| 特許 6781714 | 金属錯体およびこれらの金属錯体を含んでなるエレクトロルミネッセンス素子 | 2020年11月 4日 | |
| 特許 6780004 | 表面処理用組成物およびそれを用いたレジストパターンの表面処理方法 | 2020年11月 4日 | |
| 特許 6779881 | 少なくとも1つのポリマーおよび少なくとも1つの金属錯体を含んでなる組成物、ならびにその組成物を含むエレクトロルミネッセンス素子 | 2020年11月 4日 | |
| 特許 6777625 | オプトエレクトロニクス部品のコーティング手段として使用するためのハイブリッド材料 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6772188 | 金属錯体 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6772170 | 被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6766266 | リソグラフィ組成物、レジストパターンの形成方法および半導体素子の製造方法 | 2020年10月 7日 | |
| 特許 6749999 | 電子素子のための材料 | 2020年 9月 2日 | |
| 特許 6730528 | 化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6716681 | 電子素子に使用するためのエレクトロルミネッセンスの架橋された金属錯体 | 2020年 7月 1日 |
24 件中 1-15 件を表示
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6804691 6801077 6790178 6790107 6786591 6781714 6780004 6779881 6777625 6772188 6772170 6766266 6749999 6730528 6716681
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