特許ランキング - 出願人詳細情報 -

メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング

※ ログインすれば出願人(メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第714位　40件（2019年：第1102位　25件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第843位　24件（2019年：第2668位　5件）

（ランキング更新日：2026年3月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6804691	ポリカルボシランを含んでなるシリコンカーバイド質膜形成組成物、およびそれを用いたシリコンカーバイド質膜の製造方法	2020年12月23日
特許 6801077	ＬＥＤ封止材料のための配合物	2020年12月16日
特許 6790107	微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法	2020年11月25日
特許 6790178	複素環式スピロ化合物	2020年11月25日
特許 6786591	有機エレクトロルミネッセンス素子のためのフェノキサジン誘導体	2020年11月18日
特許 6779881	少なくとも１つのポリマーおよび少なくとも１つの金属錯体を含んでなる組成物、ならびにその組成物を含むエレクトロルミネッセンス素子	2020年11月 4日
特許 6780004	表面処理用組成物およびそれを用いたレジストパターンの表面処理方法	2020年11月 4日
特許 6781714	金属錯体およびこれらの金属錯体を含んでなるエレクトロルミネッセンス素子	2020年11月 4日
特許 6777625	オプトエレクトロニクス部品のコーティング手段として使用するためのハイブリッド材料	2020年10月28日
特許 6772170	被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法	2020年10月21日
特許 6772188	金属錯体	2020年10月21日
特許 6766266	リソグラフィ組成物、レジストパターンの形成方法および半導体素子の製造方法	2020年10月 7日
特許 6749999	電子素子のための材料	2020年 9月 2日
特許 6730528	化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法	2020年 7月29日
特許 6716681	電子素子に使用するためのエレクトロルミネッセンスの架橋された金属錯体	2020年 7月 1日

24 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6804691 6801077 6790107 6790178 6786591 6779881 6780004 6781714 6777625 6772170 6772188 6766266 6749999 6730528 6716681

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数