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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第714位 40件
(
2019年:第1102位 25件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第843位 24件
(
2019年:第2668位 5件)
(ランキング更新日:2026年4月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-537660 | 有機エレクトロルミネッセンス素子のための材料 | 2020年12月24日 | |
| 特表 2020-537759 | 高精細パターンの製造方法およびそれを用いた表示素子の製造方法 | 2020年12月24日 | |
| 特表 2020-537760 | 微細パターンの製造方法およびそれを用いた表示素子の製造方法 | 2020年12月24日 | |
| 特表 2020-535453 | ポジ型感光性シロキサン組成物およびこれを用いた硬化膜 | 2020年12月 3日 | |
| 特開 2020-183506 | 硬化膜の製造方法、およびその使用 | 2020年11月12日 | |
| 特開 2020-178062 | 基板パターンフィリング組成物およびその使用 | 2020年10月29日 | |
| 特表 2020-529979 | 金属錯体 | 2020年10月15日 | |
| 特表 2020-530043 | ポリカルボシランを含んでなるシリコンカーバイド質膜形成組成物、およびそれを用いたシリコンカーバイド質膜の製造方法 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-165995 | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターンの製造方法 | 2020年10月 8日 | |
| 特開 2020-160318 | 厚膜レジスト組成物およびそれを用いたレジスト膜の製造方法 | 2020年10月 1日 | |
| 特開 2020-154276 | ポジ型感光性ポリシロキサン組成物 | 2020年 9月24日 | |
| 特開 2020-154282 | ポジ型感光性ポリシロキサン組成物 | 2020年 9月24日 | |
| 特開 2020-132749 | ポリマー、ポリマーを含んでなる半導体組成物、および半導体組成物を用いた膜の製造方法 | 2020年 8月31日 | |
| 特表 2020-526036 | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | 2020年 8月27日 | |
| 特表 2020-524737 | 電子素子のための材料 | 2020年 8月20日 |
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2020-537660 2020-537759 2020-537760 2020-535453 2020-183506 2020-178062 2020-529979 2020-530043 2020-165995 2020-160318 2020-154276 2020-154282 2020-132749 2020-526036 2020-524737
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