特許ランキング - 出願人詳細情報 -

メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング

※ ログインすれば出願人(メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第714位　40件（2019年：第1102位　25件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第843位　24件（2019年：第2668位　5件）

（ランキング更新日：2025年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-537660	有機エレクトロルミネッセンス素子のための材料	2020年12月24日
特表 2020-537759	高精細パターンの製造方法およびそれを用いた表示素子の製造方法	2020年12月24日
特表 2020-537760	微細パターンの製造方法およびそれを用いた表示素子の製造方法	2020年12月24日
特表 2020-535453	ポジ型感光性シロキサン組成物およびこれを用いた硬化膜	2020年12月 3日
特開 2020-183506	硬化膜の製造方法、およびその使用	2020年11月12日
特開 2020-178062	基板パターンフィリング組成物およびその使用	2020年10月29日
特表 2020-529979	金属錯体	2020年10月15日
特表 2020-530043	ポリカルボシランを含んでなるシリコンカーバイド質膜形成組成物、およびそれを用いたシリコンカーバイド質膜の製造方法	2020年10月15日
特開 2020-165995	ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターンの製造方法	2020年10月 8日
特開 2020-160318	厚膜レジスト組成物およびそれを用いたレジスト膜の製造方法	2020年10月 1日
特開 2020-154276	ポジ型感光性ポリシロキサン組成物	2020年 9月24日
特開 2020-154282	ポジ型感光性ポリシロキサン組成物	2020年 9月24日
特開 2020-132749	ポリマー、ポリマーを含んでなる半導体組成物、および半導体組成物を用いた膜の製造方法	2020年 8月31日
特表 2020-526036	有機エレクトロルミネッセンス素子	2020年 8月27日
特表 2020-524737	電子素子のための材料	2020年 8月20日

40 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-537660 2020-537759 2020-537760 2020-535453 2020-183506 2020-178062 2020-529979 2020-530043 2020-165995 2020-160318 2020-154276 2020-154282 2020-132749 2020-526036 2020-524737

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数