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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第4317位 4件 (2023年:第3248位 6件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第2757位 6件 (2023年:第6302位 2件)
(ランキング更新日:2025年1月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7572735 | 部分的強磁性アノードを備えるデュオプラズマトロンイオン源 | 2024年10月24日 | |
特許 7513619 | フォトインジェクタにおける単結晶シリコンからの電子回折強度 | 2024年 7月 9日 | |
特許 7508467 | 無溶剤イオン性液体エポキシ樹脂 | 2024年 7月 1日 | |
特許 7478215 | 無溶媒イオン性液体エポキシ樹脂 | 2024年 5月 2日 | |
特許 7470125 | X線自由電子レーザーの時間的コヒーレンスおよび決定論的位相制御のためのナノパターン化された電子ビーム | 2024年 4月17日 | |
特許 7421564 | 荷電粒子パルスを光パルスと同期させる方法および装置 | 2024年 1月24日 |
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7572735 7513619 7508467 7478215 7470125 7421564
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