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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第11394位 0件
(2024年:第3594位 5件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第3033位 1件
(2024年:第1868位 10件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7627340 | レジスト下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法 | 2025年 2月 5日 |
1 件中 1-1 件を表示
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3月24日(月) -
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3月25日(火) -
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3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -