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出願人名に「公益財団法人国際科学振興財団」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 4845786 | 真空排気装置、半導体製造装置及び真空処理方法 | 公益財団法人国際科学振興財団 | 2011年12月28日 |
| 特許 4830091 | 気液混合洗浄装置及び気液混合洗浄方法 | 公益財団法人国際科学振興財団 | 2011年12月 7日 |
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4845786 4830091
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