ホーム > 特許ランキング > 光洋応用材料科技股▲ふん▼有限公司 > 2014年 > 出願公開一覧
公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
---|---|---|---|
特開 2014-109071 | スパッタリングターゲット | 光洋応用材料科技股▲ふん▼有限公司 | 2014年 6月12日 |
特開 2014-91854 | 記録層用の合金ターゲット、記録層、光記録媒体、およびそれを含むブルーレイディスク | 光洋応用材料科技股▲ふん▼有限公司 | 2014年 5月19日 |
特開 2014-84270 | 酸化ガリウム粉末及びその製造方法 | 光洋応用材料科技股▲ふん▼有限公司 | 2014年 5月12日 |
特開 2014-43638 | 電気めっき用アノード材の製造方法及び電気めっき用アノード | 光洋応用材料科技股▲ふん▼有限公司 | 2014年 3月13日 |
特開 2014-15680 | スパッタリングターゲット及びそれにより得られる酸化金属薄膜 | 光洋応用材料科技股▲ふん▼有限公司 | 2014年 1月30日 |
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2014-109071 2014-91854 2014-84270 2014-43638 2014-15680
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(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
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2月21日(金) -
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月25日(火) -
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