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東ソ−・エフテック株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第2494位 8件
（
2011年：第3481位 5件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1877位 12件
（2011年：第2071位 10件）
（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東ソ−・エフテック株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-238524 | ＬｉＰＦ６の安定化方法および非水系二次電池用非水電解液 | 2012年12月 6日 | |
| 特開 2012-203059 | 低屈折率膜形成用組成物、低屈折率薄膜の製造方法及び反射防止膜付き部品 | 2012年10月22日 | |
| 特開 2012-176902 | 新規な光学活性含フッ素化合物、その製造方法及びそれを用いた光学活性３，３，３−トリフルオロアラニンの製造方法 | 2012年 9月13日 | |
| 特開 2012-162493 | 光学活性含フッ素２，３−ジヒドロピリドン誘導体及びその製造方法。 | 2012年 8月30日 | |
| 特開 2012-162484 | 光学活性含フッ素β−アミノ酸誘導体及びその製造方法 | 2012年 8月30日 | |
| 特開 2012-126689 | フッ素化アダマンタン誘導体の製造方法 | 2012年 7月 5日 | |
| 特開 2012-94491 | 非水電解液用の難燃性溶媒、これを含有する難燃性非水電解液及び非引火性非水電解液 | 2012年 5月17日 | |
| 特開 2012-74135 | ジフルオロエチルエーテルを含有する非水電解液 | 2012年 4月12日 |
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2012-238524 2012-203059 2012-176902 2012-162493 2012-162484 2012-126689 2012-94491 2012-74135
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